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PVD镀膜的具体原理是什么?
时间:2019-02-18 08:40
阅读:996
来源:互联网
物理气相沉积是一种物理气相反应生长法,沉积过程是在真空或低气气体放电条件下,涂层物质源是固态物质,经过“蒸发或溅射”后,在零件表面生成与基材性能完全不同的新的固态物质涂层。